Dental adezivlerin total etch, self etch ve selektif etch uygulama prosedürlerinin sınıf ıı kompozit restorasyonlarda görülen mikrosızıntı üzerine etkisinin incelenmesi
Tezin Yürütüldüğü Kurum: Sağlık Bilimleri Üniversitesi, GÜLHANE DİŞ HEKİMLİĞİ FAKÜLTESİ (ANKARA), KLİNİK BİLİMLER BÖLÜMÜ, Türkiye
Tezin Onay Tarihi: 2022
Tezin Dili: Türkçe
Öğrenci: MUSTAFA YOLLAR
Danışman: Serpil KARAOĞLANOĞLU
Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu
Özet:Yapılan bu çalışmada, çekilmiş daimi dişlerinde hazırlanan sınıf II kavitelerde dört farklı adeziv sistemin farklı metotlarla (self etch, selektif etch, etch and rinse) uygulanması sonucunda dişlerde görülen mikrosızıntı miktarının ölçülmesi ve mikrosızıntı değerleri açısından oluşabilecek farklılıkların değerlendirilmesi amaçlanmıştır. Çeşitli nedenlerle çekilmiş 60 adet daimi diş rastgele olarak 12 gruba ayrılmış ve çalışmada kullanılan adeziv materyaller (G2-Bond Universal (GC Corp., Tokyo, Japan), Clearfil Tri-S Bond Universal (Kuraray Noritake, Niigata, Japan), Prime&Bond Universal (Dentsply Sirona Pennsylvania, USA), Tokuyama Bond Force II (Tokuyama Dental, Tokyo, Japan)) uygulanmıştır. Tüm gruplar G-aenial A'CHORD (Nanohibrit) (GC, Tokyo, Japan) A2 kompozit ile restore edilmiştir. Restorasyon sonrası dişlere 5-55±20C'de 1000 kez termal siklus uygulanmıştır. Sonrasında örnekler %0,5'lik bazik fuksin içerisinde 24 saat bekletilmiştir. Daha sonra örnekler bol su altında yıkandıktan sonra polimerize olan akrilik rezin bloklar içerisine gömülmüştür. Bazik fuksin ile boya penetrasyonu sonrasında oluşan mikrosızıntı değerleri, her örnekten mesiodistal yönde alınan kesitler üzerinde skorlama yöntemiyle kantitatif olarak tespit edilmiştir. Verilerin istatistiksel analizinde tek yönlü Varyans Analizi (ANOVA), farkın hangi grup veya gruplardan kaynaklandığını belirlemek amacıyla Tukey testi kullanılmıştır (p 0,05). Çalışmamızdaki adeziv sistemlerden Clearfil Tri-S Bond Universal'in, selektif etch, self etch ve etch and rinse uygulanmaları arasında istatistiksel olarak anlamlı bir fark bulunmuş olup, etch and rinse uygulama self etch uygulamadan daha az mikrosızıntı göstermiştir (p 0,05), self etch uygulama ise istatistiksel olarak en fazla mikrosızıntıyı göstermiştir (p 0.05), self etch uygulamada istatiksel olarak anlamlı farklılık görülmüştür (p<0.05). Prime&Bond Universal'in self etch uygulaması sonucunda diğer üç adeziv sisteme göre istatistiksel olarak daha fazla mikrosızıntı göstermiştir (p<0,05). Çalışmamızın sınırları içerisinde test edilen adeziv materyallerin ek olarak fosforik asit ile pürüzlendirilmesinin (selektif etch ve etch and rinse) mikrosızıntı miktarını azalttığı görülmüştür. Bundan dolayı, düşük mikrosızıntı düzeyleri göstermeleri sebebiyle mine ve/veya dentinde ek olarak fosforik asit ile pürüzlendirilmenin uygulanabileceği söylenebilir.